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榆林市(子洲县、府谷县、靖边县、吴堡县、米脂县、绥德县、榆阳区、佳县、横山区、定边县、神木市、清涧县)

铜陵市(义安区、铜官区、枞阳县、郊区)

商洛市(丹凤县、柞水县、洛南县、山阳县、镇安县、商州区、商南县)

锡林郭勒盟(镶黄旗、苏尼特右旗、正蓝旗、苏尼特左旗、正镶白旗、太仆寺旗、西乌珠穆沁旗、二连浩特市、锡林浩特市、多伦县、阿巴嘎旗、东乌珠穆沁旗)  阿克苏地区(沙雅县、新和县、库车市、温宿县、阿瓦提县、拜城县、乌什县、柯坪县、阿克苏市)

贵阳市(南明区、花溪区、开阳县、观山湖区、乌当区、清镇市、白云区、息烽县、修文县、云岩区)

博尔塔拉蒙古自治州(阿拉山口市、温泉县、精河县、博乐市)

信阳市(潢川县、息县、商城县、罗山县、平桥区、固始县、浉河区、光山县、淮滨县、新县)黔南布依族苗族自治州(平塘县、荔波县、瓮安县、惠水县、三都水族自治县、贵定县、福泉市、罗甸县、独山县、都匀市、龙里县、长顺县)

文山壮族苗族自治州(富宁县、广南县、马关县、文山市、麻栗坡县、西畴县、丘北县、砚山县)  萍乡市(湘东区、芦溪县、上栗县、莲花县、安源区)

德宏傣族景颇族自治州(陇川县、瑞丽市、梁河县、芒市、盈江县)

海口市(美兰区、龙华区、琼山区、秀英区)

阿勒泰地区(吉木乃县、阿勒泰市、哈巴河县、福海县、布尔津县、青河县、富蕴县)

嘉兴市(平湖市、南湖区、海宁市、海盐县、秀洲区、桐乡市、嘉善县)

黔西南布依族苗族自治州(安龙县、普安县、册亨县、兴义市、晴隆县、兴仁市、望谟县、贞丰县)

东营市(垦利区、东营区、河口区、利津县、广饶县)

阳泉市(城区、盂县、郊区、矿区、平定县)

深圳市(龙华区、南山区、宝安区、罗湖区、光明区、福田区、龙岗区、坪山区、盐田区)

泉州市(德化县、安溪县、洛江区、金门县、南安市、泉港区、石狮市、晋江市、惠安县、鲤城区、永春县、丰泽区)

山南市(桑日县、洛扎县、错那市、加查县、隆子县、扎囊县、措美县、曲松县、浪卡子县、贡嘎县、琼结县、乃东区)

吉林市(昌邑区、丰满区、舒兰市、蛟河市、磐石市、龙潭区、船营区、永吉县、桦甸市)

阜新市(太平区、彰武县、阜新蒙古族自治县、细河区、清河门区、新邱区、海州区)

巴彦淖尔市(杭锦后旗、磴口县、乌拉特后旗、临河区、乌拉特前旗、乌拉特中旗、五原县)

自贡市(沿滩区、大安区、荣县、自流井区、贡井区、富顺县)

白城市(镇赉县、大安市、洮南市、洮北区、通榆县)

南宁市(武鸣区、宾阳县、马山县、横州市、良庆区、兴宁区、青秀区、隆安县、邕宁区、西乡塘区、上林县、江南区)

乌兰察布市(凉城县、察哈尔右翼前旗、集宁区、丰镇市、化德县、察哈尔右翼中旗、卓资县、兴和县、四子王旗、商都县、察哈尔右翼后旗)

黄南藏族自治州(尖扎县、泽库县、河南蒙古族自治县、同仁市)

泰安市(东平县、岱岳区、新泰市、泰山区、肥城市、宁阳县)

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贵港市(港南区、港北区、覃塘区、桂平市、平南县)

石家庄市(平山县、赞皇县、新华区、无极县、长安区、裕华区、栾城区、新乐市、辛集市、高邑县、鹿泉区、赵县、晋州市、行唐县、元氏县、正定县、灵寿县、深泽县、井陉矿区、桥西区、井陉县、藁城区)

宝鸡市(太白县、凤翔区、金台区、渭滨区、陈仓区、陇县、眉县、扶风县、凤县、麟游县、千阳县、岐山县)

昌都市(八宿县、类乌齐县、卡若区、左贡县、察雅县、贡觉县、江达县、芒康县、丁青县、边坝县、洛隆县)  双鸭山市(岭东区、宝清县、饶河县、宝山区、集贤县、四方台区、尖山区、友谊县)

柳州市(柳江区、三江侗族自治县、融安县、鱼峰区、柳南区、城中区、柳城县、融水苗族自治县、鹿寨县、柳北区)

北海市(海城区、合浦县、银海区、铁山港区)

张家界市(永定区、桑植县、慈利县、武陵源区)哈密市(伊吾县、巴里坤哈萨克自治县、伊州区)

岳阳市(湘阴县、平江县、华容县、君山区、临湘市、汨罗市、岳阳县、云溪区、岳阳楼区)  成都市(双流区、彭州市、锦江区、武侯区、温江区、郫都区、金牛区、大邑县、邛崃市、新都区、崇州市、成华区、蒲江县、龙泉驿区、青羊区、都江堰市、新津区、简阳市、金堂县、青白江区)

六盘水市(水城区、六枝特区、盘州市、钟山区)

西安市(新城区、高陵区、碑林区、蓝田县、阎良区、莲湖区、未央区、雁塔区、临潼区、周至县、灞桥区、鄠邑区、长安区)

韶关市(乳源瑶族自治县、南雄市、武江区、新丰县、翁源县、仁化县、浈江区、始兴县、曲江区、乐昌市)南阳市(宛城区、方城县、镇平县、南召县、桐柏县、淅川县、西峡县、新野县、内乡县、卧龙区、邓州市、社旗县、唐河县)

中卫市(中宁县、沙坡头区、海原县)

宁德市(蕉城区、福鼎市、寿宁县、柘荣县、霞浦县、福安市、屏南县、古田县、周宁县)

甘孜藏族自治州(泸定县、丹巴县、色达县、雅江县、新龙县、甘孜县、道孚县、白玉县、九龙县、稻城县、炉霍县、巴塘县、石渠县、德格县、得荣县、乡城县、康定市、理塘县)

大兴安岭地区(漠河市、塔河县、呼玛县)

连云港市(赣榆区、灌云县、海州区、东海县、连云区、灌南县)

玉树藏族自治州(曲麻莱县、称多县、治多县、玉树市、囊谦县、杂多县)

抚顺市(清原满族自治县、抚顺县、新抚区、新宾满族自治县、顺城区、东洲区、望花区)

滁州市(琅琊区、南谯区、来安县、全椒县、定远县、天长市、明光市、凤阳县)

洛阳市(宜阳县、瀍河回族区、涧西区、汝阳县、伊川县、孟津区、西工区、偃师区、老城区、洛宁县、嵩县、洛龙区、新安县、栾川县)

苏州市(张家港市、虎丘区、昆山市、吴中区、吴江区、常熟市、姑苏区、相城区、太仓市)

济宁市(汶上县、鱼台县、梁山县、曲阜市、嘉祥县、兖州区、金乡县、泗水县、任城区、微山县、邹城市)

锦州市(古塔区、凌河区、凌海市、黑山县、北镇市、义县、太和区)

广元市(青川县、朝天区、剑阁县、利州区、旺苍县、苍溪县、昭化区)

湘西土家族苗族自治州(凤凰县、泸溪县、花垣县、古丈县、保靖县、吉首市、龙山县、永顺县)

吕梁市(孝义市、兴县、柳林县、岚县、临县、中阳县、交城县、离石区、方山县、石楼县、交口县、汾阳市、文水县)

许昌市(鄢陵县、长葛市、襄城县、魏都区、禹州市、建安区)

中国半导体设备产业动态频频，以中微公司和北方华创为代表的国内龙头企业纷纷展现强劲的增长势头和战略布局。中微公司通过大幅增资强化技术研发和市场拓展，巩固其在刻蚀设备领域的领先地位；北方华创则通过对外投资和股权收购，积极拓展业务版图，并在业绩上实现显著增长。

众所周知，中国正在加紧推进半导体的国产化进程，其中设备作为半导体产业的基石，其国产化水平决定着整个半导体产业链的自主可控程度。近期有预测称，到2025年中国大陆半导体设备整体国产化率有望达到50%，该消息引起了行业一众关注。究竟真实进展如何？

中微公司增资至40亿，增幅300%

4月21日，企查查显示，中微半导体（上海）有限公司宣布注册资本由10亿元人民币增至40亿元人民币，增幅达300%。通过增资，中微公司将进一步增强资金实力，加速技术研发和市场拓展，提升在全球半导体设备市场的竞争力。

中微公司2024年财报显示，公司实现营业收入90.65亿元，同比增长44.7%，其中刻蚀设备贡献超72亿元，同比增长54.7%，稳居国产刻蚀设备龙头。尽管净利润约16.16亿元，同比下滑9.5%，但扣非净利润约13.88亿元，同比增长16.5%。这一下滑主要受研发投入激增影响，2024年研发费用达24.5亿元，同比增长94.3%。公司创始人尹志尧表示，2024年人均销售超过400万元，达到设备产业国际先进水平。

从出货设备来看，刻蚀领域，该公司的CCP刻蚀设备2024年生产付运超过1200反应台，创历史新高，累计装机量超过4000反应台；薄膜沉积设备领域，LPCVD设备累计出货量已突破150个反应台，2024年获得约4.76亿元批量订单，ALD（原子层沉积）设备和其他关键薄膜沉积设备研发项目正在顺利推进，EPI（外延）设备已顺利进入客户端量产验证阶段。

量测设备领域，中微公司控股子公司超微半导体设备（上海）有限公司拟增资至1.6亿元，中微公司持股比例将降至47.2%，但仍保持控制权。据悉，超微公司重点开发电子束量检测设备，该设备是芯片制造和先进封装工艺中的关键设备，对我国发展新质生产力至关重要。

今年1月，中微公司计划在成都市高新区投资设立全资子公司中微半导体设备（成都）有限公司，建设研发及生产基地暨西南总部项目。项目总投资约30.5亿元，主要用于研发薄膜设备。该公司将作为中微公司的西南总部，建设包括研发中心、生产基地和配套设施，预计2025年开工，2027年投入生产。

北方华创：拟向全资子公司增资4亿元，并参与北京电控增资

4月18日，北方华创公告，公司拟以全资子公司北方华创创新投资(北京)有限公司作为出资平台，与北京电子控股有限责任公司（以下简称“北京电控”）各出资4亿元人民币，以非公开协议方式向北京电控控股子公司北京电控产业投资有限公司增资。

据悉，电控产投将主要通过基金和股权投资方式，围绕集成电路、人工智能、物联网等应用领域，投资布局发展潜力大、技术或产品好的标的企业。此次增资总额为8亿元，其中北方华创出资4亿元，北京电控出资4亿元。增资完成后，电控产投注册资本将增至18.57亿元，北方华创持股比例为17.6847%。

资料显示，电控产投成立于2008年10月30日，注册资本12亿元，股权结构上，北京电控持有50%的股权、京东方持有33.3%股权、电子城持有16.7%股权。

值得注意的是，当前北方华创持续扩大业务布局。今年3月31日，北方华创公告，受让沈阳中科天盛自动化技术有限公司（下称“中科天盛”）持有的芯源微股份1690万股，占芯源微总股本的8.41%。更早前的3月10日，北方华创与沈阳先进制造技术产业有限公司（下称“先进制造”）签署了股份转让协议，北方华创拟受让先进制造持有的芯源微9.49%股份，合计1906.49万股，交易金额为16.87亿元。

受益于半导体行业回暖，北方华创业绩亮眼。2024年，北方华创实现营业收入298.38亿元，同比增长35.14%；归属于上市公司股东的净利润为56.21亿元，同比增长44.17%。该公司还发布了2025年一季度业绩预告显示，预计实现营收73.4亿元至89.8亿元，同比增长23.35%-50.91%；预计实现归母净利润14.2亿元至17.4亿元，同比增长24.69%-52.79%。

北方华创表示，2024年公司深耕半导体基础产品领域，经营业绩稳定增长。公司集成电路装备领域多款新产品取得突破，工艺覆盖度及市场占有率显著增长，产品销量同比大幅度增加。今年一季度，公司集成电路装备领域电容耦合等离子体刻蚀设备（CCP）、原子层沉积设备（ALD）、高端单片清洗机等多款新产品实现关键技术突破，工艺覆盖度显著增长，同时多款成熟产品市场占有率稳步提升。凭借优良的产品、技术和服务优势，公司市场份额持续扩大，营业收入同比提升。

中国半导体设备国产化进程飙升

据SEMI数据，中国作为全球最大的半导体消费市场，强劲的市场需求为半导体设备产业的发展提供了强大动力。近年来，国内半导体设备企业在技术突破和国产替代方面持续发力并取得显著进展。以北方华创、中微公司、盛美上海等为代表的设备公司，在技术研发和市场拓展上成果斐然，逐步成为市场竞争中的重要力量。截至2024年，中国半导体设备国产化率提升至13.6%，在刻蚀、清洗、去胶和CMP设备市场，国产化率已突破双位数。尽管光刻设备与国际先进水平仍存在差距，但也取得了部分突破。

全球前五大半导体设备厂商均专注于前道设备应用，分别是应用材料、ASML、东京电子、Lam Research和科磊（KLA）。其中，应用材料、东京电子、泛林半导体是平台型企业，业务横跨刻蚀、薄膜、清洗、离子注入等多个领域，而ASML和KLA属于细分领域龙头。从行业发展趋势来看，向平台型企业发展是进入全球设备第一梯队的关键路径。

由上表可知，在中国大陆，我国目前在发展平台型设备厂商方面卓有成效的主要有北方华创、中微公司、盛美上海和万业企业，而在各细分领域也出现了诸如拓荆科技、芯源微、华海清科、长川科技（维权）、精测电子、中科飞测等代表性企业。

我国设备平台型企业发展情况各有不同，北方华创发展较早，已形成规模，是国内唯一成型的平台型设备企业；中微公司和盛美上海处于加速成长阶段，具备一定规模；万业企业虽处于发展初期，但明确朝着“平台型”企业的目标迈进。从企业发展体量来看，自2022年起，设备行业诞生了北方华创和晶盛机电两个百亿设备巨头。

据全球半导体观察综合中国半导体产业协会、企业财报、半导体行业咨询公司等行业各方消息可知，我国在去胶、清洗、刻蚀设备方面国产化率较高；在CMP、热处理、薄膜沉积领域，近几年国产化取得明显突破；然而在量测、涂胶显影、光刻、离子注入等设备领域，仍较为薄弱。

去胶设备领域来看，中国半导体国产化率在2023-2024年显著提升，尤其在成熟制程（28nm及以上，下同）和中低端市场已实现较高替代率。综合行业多方数据显示，在中低端市场，国产化率约75%-90%，主要覆盖成熟制程、功率半导体、先进封装等领域；而在高端市场上，在先进逻辑芯片（14nm以下，下同）和高端存储芯片（3DNAND/DRAM）中，国产化率仍低于30%，这部分主要依赖东京电子、LamResearch等国际厂商。目前，我国在去胶设备领域的代表企业主要有屹唐半导体、浙江宇谦、上海稷以、北方华创、盛美上海等，总体来看国产设备在“去胶+清洗”集成设备中占优。

清洗设备领域，我国国产化率已不断提高至50-60%，代表企业主要有北方华创、盛美上海、至纯科技、芯源微、屹唐半导体等。

在刻蚀设备领域，我国在成熟制程国产化率约为50%-60%，主要应用于逻辑芯片、功率半导体和存储芯片（如3DNAND）；而在先进制程，国产化率不足15%，高端市场被Lam Research、东京电子、应用材料等垄断。在该领域我国主要代表企业有中微公司、北方华创、嘉芯半导体、屹唐半导体等，另外拓荆科技、盛美上海、芯源微虽然没有专门推出转有的刻蚀设备，但其部分领域设备均有涉及刻蚀工艺。

在热处理设备领域，我国国产化率约为30%-40%，主要代表企业有北方华创、晶盛机电、中微公司、拓荆科技、嘉芯半导体等，另外华海清科、拓荆科技、芯源微部分领域设备均有涉及热处理工艺，占据一定市场份额。

PVD设备领域则是北方华创、捷佳伟创、嘉芯半导体、中电科、科睿设备有限公司、中科院沈阳科学仪器、合肥科晶材料、晶盛机电、中微公司、盛美上海、拓荆科技。该领域设备国产化率还处于较低水平，约为15%-20%，其中在先进制程领域，国产化率仅为10%左右，主要依赖进口。

半导体CMP设备领域，我国在成熟制程国产化率约15%-25%，主要应用于功率半导体、MEMS传感器等领域；而在先进制程上国产化率不足10%，高端市场由应用材料、荏原制作所等垄断。我国在该领域上的代表企业主要有盛美上海、华海清科、中国电科、鼎龙控股、烁科精微等。

涂胶显影设备是光刻工艺的核心设备之一，主要用于晶圆的光刻胶涂覆、显影等步骤。在该领域，我国国产化率约为10%-15%（主要集中在封装和成熟制程），前道设备国产化率不足10%。行业消息显示，涂胶显影设备的主要挑战在于设备稳定性、工艺精度（如均匀性控制）、与光刻机的协同适配方面。我国涂胶显影设备主要代表企业则是盛美上海、芯源微、北方华创、中微公司、华峰测控等。

在离子注入设备领域，我国在成熟制程上的国产化率约10%-20%，主要应用于功率半导体、MEMS传感器等非先进逻辑芯片领域；而在先进制程国产化率不足5%，市场由应用材料、Axcelis、日立国际电气主导。目前，国产设备在中高能量（>200keV）和超低能量（<1keV）离子注入领域仍落后，束流均匀性（±3%vs国际±1%）和稳定性待提升。而在晶圆尺寸适配上，12英寸设备成熟度低，8英寸设备逐步替代进口。此外在相关重要配件上如离子源、质量分析器等长期依赖进口。该领域我国主要代表企业为凯世通、中国电科、烁科中信科、北方华创、中微公司等。

半导体量测设备包括晶圆缺陷检测、关键尺寸测量（CD-SEM）、膜厚测量（椭偏仪）、套刻精度测量等，技术门槛极高。该领域整体国产化率约为10%-15%，我国主要在中低端设备和部分细分领域取得突破，其中前道高端设备（如EUV相关检测）国产化率不足5%。目前该领域的主要发展瓶颈在于核心光学部件（如高精度激光器）、算法软件（缺陷分类与数据分析）依赖进口，设备稳定性与海外巨头存在差距。在量测领域我国主要代表企业为上海微电子、中科飞测、精测电子、华海清科、北方华创等。

在半导体光刻设备前道制造（EUV/ArF浸没式）领域，国产化率约为0%-1％。而在成熟制程光刻机（KrF/i-line，90nm及以上），国产化率约10%-15%，主要用于功率半导体、MEMS、分立器件等领域。而在封装光刻机（后道先进封装），在上海微电子主导下，国产化率不断提升。在该领域我国的主要代表企业有上海微电子、中国电科、北方华创等。据悉，上海微电子计划推出支持55nm制程的KrF光刻机，并推进28nm光刻机量产验证。