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怒江傈僳族自治州(泸水市、贡山独龙族怒族自治县、兰坪白族普米族自治县、福贡县)

广元市(苍溪县、昭化区、青川县、朝天区、旺苍县、剑阁县、利州区)

中山市

烟台市(芝罘区、莱阳市、蓬莱区、莱山区、栖霞市、福山区、海阳市、莱州市、牟平区、龙口市、招远市)  朝阳市(凌源市、双塔区、龙城区、朝阳县、喀喇沁左翼蒙古族自治县、建平县、北票市)

黔南布依族苗族自治州(福泉市、独山县、贵定县、都匀市、罗甸县、三都水族自治县、平塘县、瓮安县、龙里县、惠水县、长顺县、荔波县)

金华市(武义县、东阳市、浦江县、磐安县、永康市、婺城区、金东区、义乌市、兰溪市)

周口市(扶沟县、沈丘县、太康县、鹿邑县、淮阳区、商水县、川汇区、项城市、郸城县、西华县)

邯郸市(邯山区、临漳县、馆陶县、磁县、广平县、涉县、魏县、武安市、大名县、丛台区、峰峰矿区、曲周县、鸡泽县、邱县、成安县、肥乡区、复兴区、永年区)  林芝市(波密县、工布江达县、巴宜区、墨脱县、米林市、朗县、察隅县)

无锡市(新吴区、宜兴市、滨湖区、梁溪区、锡山区、惠山区、江阴市)

上饶市(信州区、横峰县、鄱阳县、铅山县、广信区、玉山县、弋阳县、余干县、德兴市、婺源县、万年县、广丰区)

安阳市(内黄县、滑县、龙安区、文峰区、汤阴县、林州市、北关区、安阳县、殷都区)

安顺市(镇宁布依族苗族自治县、西秀区、紫云苗族布依族自治县、普定县、平坝区、关岭布依族苗族自治县)

永州市(零陵区、江永县、新田县、蓝山县、东安县、宁远县、祁阳市、冷水滩区、双牌县、道县、江华瑶族自治县)

韶关市(曲江区、南雄市、新丰县、武江区、浈江区、仁化县、翁源县、乐昌市、始兴县、乳源瑶族自治县)

岳阳市(君山区、临湘市、云溪区、平江县、岳阳楼区、湘阴县、华容县、汨罗市、岳阳县)

贵阳市(开阳县、观山湖区、花溪区、南明区、乌当区、云岩区、息烽县、清镇市、修文县、白云区)

石家庄市(井陉矿区、鹿泉区、高邑县、裕华区、井陉县、元氏县、长安区、藁城区、正定县、辛集市、新华区、桥西区、行唐县、赵县、新乐市、平山县、栾城区、晋州市、赞皇县、深泽县、灵寿县、无极县)

长沙市(宁乡市、天心区、望城区、雨花区、长沙县、芙蓉区、岳麓区、开福区、浏阳市)

衢州市(柯城区、江山市、衢江区、龙游县、开化县、常山县)

赣州市(信丰县、章贡区、全南县、宁都县、南康区、石城县、寻乌县、崇义县、兴国县、定南县、赣县区、瑞金市、会昌县、上犹县、安远县、于都县、龙南市、大余县)

北海市(合浦县、铁山港区、银海区、海城区)

庆阳市(合水县、环县、西峰区、正宁县、华池县、宁县、镇原县、庆城县)

鹤岗市(绥滨县、兴山区、萝北县、南山区、兴安区、工农区、东山区、向阳区)

泸州市(纳溪区、合江县、泸县、古蔺县、龙马潭区、江阳区、叙永县)

随州市(随县、曾都区、广水市)

桂林市(阳朔县、荔浦市、资源县、七星区、兴安县、象山区、灵川县、临桂区、永福县、龙胜各族自治县、雁山区、灌阳县、叠彩区、平乐县、秀峰区、全州县、恭城瑶族自治县)

徐州市(邳州市、泉山区、沛县、云龙区、丰县、新沂市、贾汪区、鼓楼区、铜山区、睢宁县)

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杭州市(桐庐县、建德市、临安区、淳安县、萧山区、拱墅区、富阳区、上城区、滨江区、西湖区、临平区、钱塘区、余杭区)

安庆市(怀宁县、迎江区、太湖县、望江县、宜秀区、岳西县、宿松县、大观区、潜山市、桐城市)

红河哈尼族彝族自治州(弥勒市、开远市、屏边苗族自治县、金平苗族瑶族傣族自治县、泸西县、个旧市、绿春县、石屏县、红河县、河口瑶族自治县、蒙自市、元阳县、建水县)

澳门特别行政区  荆门市(沙洋县、京山市、钟祥市、掇刀区、东宝区)

泉州市(永春县、安溪县、鲤城区、德化县、南安市、丰泽区、惠安县、金门县、石狮市、晋江市、泉港区、洛江区)

遵义市(务川仡佬族苗族自治县、汇川区、桐梓县、播州区、余庆县、凤冈县、红花岗区、仁怀市、道真仡佬族苗族自治县、习水县、正安县、绥阳县、湄潭县、赤水市)

张掖市(山丹县、肃南裕固族自治县、高台县、民乐县、临泽县、甘州区)清远市(连州市、英德市、清新区、连南瑶族自治县、佛冈县、阳山县、清城区、连山壮族瑶族自治县)

日照市(莒县、五莲县、东港区、岚山区)  遂宁市(安居区、船山区、大英县、蓬溪县、射洪市)

迪庆藏族自治州(维西傈僳族自治县、香格里拉市、德钦县)

苏州市(太仓市、吴中区、虎丘区、常熟市、吴江区、姑苏区、张家港市、昆山市、相城区)

海东市(化隆回族自治县、乐都区、互助土族自治县、循化撒拉族自治县、平安区、民和回族土族自治县)兰州市(安宁区、榆中县、城关区、西固区、红古区、皋兰县、永登县、七里河区)

商洛市(丹凤县、柞水县、洛南县、商州区、商南县、山阳县、镇安县)

普洱市(孟连傣族拉祜族佤族自治县、西盟佤族自治县、墨江哈尼族自治县、思茅区、江城哈尼族彝族自治县、宁洱哈尼族彝族自治县、镇沅彝族哈尼族拉祜族自治县、澜沧拉祜族自治县、景东彝族自治县、景谷傣族彝族自治县)

南阳市(南召县、卧龙区、镇平县、方城县、社旗县、邓州市、宛城区、西峡县、唐河县、桐柏县、新野县、内乡县、淅川县)

昌都市(八宿县、芒康县、江达县、洛隆县、丁青县、贡觉县、卡若区、察雅县、类乌齐县、边坝县、左贡县)

忻州市(忻府区、五台县、河曲县、定襄县、繁峙县、原平市、岢岚县、偏关县、宁武县、代县、五寨县、静乐县、保德县、神池县)

三亚市(海棠区、吉阳区、天涯区、崖州区)

汕尾市(陆河县、城区、陆丰市、海丰县)

湖州市(南浔区、安吉县、长兴县、德清县、吴兴区)

晋中市(介休市、左权县、灵石县、和顺县、榆次区、祁县、榆社县、昔阳县、太谷区、平遥县、寿阳县)

商丘市(虞城县、永城市、宁陵县、睢阳区、夏邑县、民权县、梁园区、睢县、柘城县)

盐城市(东台市、盐都区、阜宁县、建湖县、响水县、滨海县、亭湖区、射阳县、大丰区)

新余市(分宜县、渝水区)

大理白族自治州(洱源县、宾川县、剑川县、云龙县、南涧彝族自治县、大理市、鹤庆县、弥渡县、巍山彝族回族自治县、祥云县、永平县、漾濞彝族自治县)

运城市(万荣县、夏县、闻喜县、永济市、稷山县、平陆县、绛县、临猗县、盐湖区、新绛县、垣曲县、芮城县、河津市)

湘西土家族苗族自治州(保靖县、永顺县、古丈县、花垣县、吉首市、泸溪县、龙山县、凤凰县)

武汉市(江夏区、硚口区、汉南区、武昌区、黄陂区、汉阳区、蔡甸区、新洲区、青山区、江汉区、洪山区、东西湖区、江岸区)

中国半导体设备产业动态频频，以中微公司和北方华创为代表的国内龙头企业纷纷展现强劲的增长势头和战略布局。中微公司通过大幅增资强化技术研发和市场拓展，巩固其在刻蚀设备领域的领先地位；北方华创则通过对外投资和股权收购，积极拓展业务版图，并在业绩上实现显著增长。

众所周知，中国正在加紧推进半导体的国产化进程，其中设备作为半导体产业的基石，其国产化水平决定着整个半导体产业链的自主可控程度。近期有预测称，到2025年中国大陆半导体设备整体国产化率有望达到50%，该消息引起了行业一众关注。究竟真实进展如何？

中微公司增资至40亿，增幅300%

4月21日，企查查显示，中微半导体（上海）有限公司宣布注册资本由10亿元人民币增至40亿元人民币，增幅达300%。通过增资，中微公司将进一步增强资金实力，加速技术研发和市场拓展，提升在全球半导体设备市场的竞争力。

中微公司2024年财报显示，公司实现营业收入90.65亿元，同比增长44.7%，其中刻蚀设备贡献超72亿元，同比增长54.7%，稳居国产刻蚀设备龙头。尽管净利润约16.16亿元，同比下滑9.5%，但扣非净利润约13.88亿元，同比增长16.5%。这一下滑主要受研发投入激增影响，2024年研发费用达24.5亿元，同比增长94.3%。公司创始人尹志尧表示，2024年人均销售超过400万元，达到设备产业国际先进水平。

从出货设备来看，刻蚀领域，该公司的CCP刻蚀设备2024年生产付运超过1200反应台，创历史新高，累计装机量超过4000反应台；薄膜沉积设备领域，LPCVD设备累计出货量已突破150个反应台，2024年获得约4.76亿元批量订单，ALD（原子层沉积）设备和其他关键薄膜沉积设备研发项目正在顺利推进，EPI（外延）设备已顺利进入客户端量产验证阶段。

量测设备领域，中微公司控股子公司超微半导体设备（上海）有限公司拟增资至1.6亿元，中微公司持股比例将降至47.2%，但仍保持控制权。据悉，超微公司重点开发电子束量检测设备，该设备是芯片制造和先进封装工艺中的关键设备，对我国发展新质生产力至关重要。

今年1月，中微公司计划在成都市高新区投资设立全资子公司中微半导体设备（成都）有限公司，建设研发及生产基地暨西南总部项目。项目总投资约30.5亿元，主要用于研发薄膜设备。该公司将作为中微公司的西南总部，建设包括研发中心、生产基地和配套设施，预计2025年开工，2027年投入生产。

北方华创：拟向全资子公司增资4亿元，并参与北京电控增资

4月18日，北方华创公告，公司拟以全资子公司北方华创创新投资(北京)有限公司作为出资平台，与北京电子控股有限责任公司（以下简称“北京电控”）各出资4亿元人民币，以非公开协议方式向北京电控控股子公司北京电控产业投资有限公司增资。

据悉，电控产投将主要通过基金和股权投资方式，围绕集成电路、人工智能、物联网等应用领域，投资布局发展潜力大、技术或产品好的标的企业。此次增资总额为8亿元，其中北方华创出资4亿元，北京电控出资4亿元。增资完成后，电控产投注册资本将增至18.57亿元，北方华创持股比例为17.6847%。

资料显示，电控产投成立于2008年10月30日，注册资本12亿元，股权结构上，北京电控持有50%的股权、京东方持有33.3%股权、电子城持有16.7%股权。

值得注意的是，当前北方华创持续扩大业务布局。今年3月31日，北方华创公告，受让沈阳中科天盛自动化技术有限公司（下称“中科天盛”）持有的芯源微股份1690万股，占芯源微总股本的8.41%。更早前的3月10日，北方华创与沈阳先进制造技术产业有限公司（下称“先进制造”）签署了股份转让协议，北方华创拟受让先进制造持有的芯源微9.49%股份，合计1906.49万股，交易金额为16.87亿元。

受益于半导体行业回暖，北方华创业绩亮眼。2024年，北方华创实现营业收入298.38亿元，同比增长35.14%；归属于上市公司股东的净利润为56.21亿元，同比增长44.17%。该公司还发布了2025年一季度业绩预告显示，预计实现营收73.4亿元至89.8亿元，同比增长23.35%-50.91%；预计实现归母净利润14.2亿元至17.4亿元，同比增长24.69%-52.79%。

北方华创表示，2024年公司深耕半导体基础产品领域，经营业绩稳定增长。公司集成电路装备领域多款新产品取得突破，工艺覆盖度及市场占有率显著增长，产品销量同比大幅度增加。今年一季度，公司集成电路装备领域电容耦合等离子体刻蚀设备（CCP）、原子层沉积设备（ALD）、高端单片清洗机等多款新产品实现关键技术突破，工艺覆盖度显著增长，同时多款成熟产品市场占有率稳步提升。凭借优良的产品、技术和服务优势，公司市场份额持续扩大，营业收入同比提升。

中国半导体设备国产化进程飙升

据SEMI数据，中国作为全球最大的半导体消费市场，强劲的市场需求为半导体设备产业的发展提供了强大动力。近年来，国内半导体设备企业在技术突破和国产替代方面持续发力并取得显著进展。以北方华创、中微公司、盛美上海等为代表的设备公司，在技术研发和市场拓展上成果斐然，逐步成为市场竞争中的重要力量。截至2024年，中国半导体设备国产化率提升至13.6%，在刻蚀、清洗、去胶和CMP设备市场，国产化率已突破双位数。尽管光刻设备与国际先进水平仍存在差距，但也取得了部分突破。

全球前五大半导体设备厂商均专注于前道设备应用，分别是应用材料、ASML、东京电子、Lam Research和科磊（KLA）。其中，应用材料、东京电子、泛林半导体是平台型企业，业务横跨刻蚀、薄膜、清洗、离子注入等多个领域，而ASML和KLA属于细分领域龙头。从行业发展趋势来看，向平台型企业发展是进入全球设备第一梯队的关键路径。

由上表可知，在中国大陆，我国目前在发展平台型设备厂商方面卓有成效的主要有北方华创、中微公司、盛美上海和万业企业，而在各细分领域也出现了诸如拓荆科技、芯源微、华海清科、长川科技（维权）、精测电子、中科飞测等代表性企业。

我国设备平台型企业发展情况各有不同，北方华创发展较早，已形成规模，是国内唯一成型的平台型设备企业；中微公司和盛美上海处于加速成长阶段，具备一定规模；万业企业虽处于发展初期，但明确朝着“平台型”企业的目标迈进。从企业发展体量来看，自2022年起，设备行业诞生了北方华创和晶盛机电两个百亿设备巨头。

据全球半导体观察综合中国半导体产业协会、企业财报、半导体行业咨询公司等行业各方消息可知，我国在去胶、清洗、刻蚀设备方面国产化率较高；在CMP、热处理、薄膜沉积领域，近几年国产化取得明显突破；然而在量测、涂胶显影、光刻、离子注入等设备领域，仍较为薄弱。

去胶设备领域来看，中国半导体国产化率在2023-2024年显著提升，尤其在成熟制程（28nm及以上，下同）和中低端市场已实现较高替代率。综合行业多方数据显示，在中低端市场，国产化率约75%-90%，主要覆盖成熟制程、功率半导体、先进封装等领域；而在高端市场上，在先进逻辑芯片（14nm以下，下同）和高端存储芯片（3DNAND/DRAM）中，国产化率仍低于30%，这部分主要依赖东京电子、LamResearch等国际厂商。目前，我国在去胶设备领域的代表企业主要有屹唐半导体、浙江宇谦、上海稷以、北方华创、盛美上海等，总体来看国产设备在“去胶+清洗”集成设备中占优。

清洗设备领域，我国国产化率已不断提高至50-60%，代表企业主要有北方华创、盛美上海、至纯科技、芯源微、屹唐半导体等。

在刻蚀设备领域，我国在成熟制程国产化率约为50%-60%，主要应用于逻辑芯片、功率半导体和存储芯片（如3DNAND）；而在先进制程，国产化率不足15%，高端市场被Lam Research、东京电子、应用材料等垄断。在该领域我国主要代表企业有中微公司、北方华创、嘉芯半导体、屹唐半导体等，另外拓荆科技、盛美上海、芯源微虽然没有专门推出转有的刻蚀设备，但其部分领域设备均有涉及刻蚀工艺。

在热处理设备领域，我国国产化率约为30%-40%，主要代表企业有北方华创、晶盛机电、中微公司、拓荆科技、嘉芯半导体等，另外华海清科、拓荆科技、芯源微部分领域设备均有涉及热处理工艺，占据一定市场份额。

PVD设备领域则是北方华创、捷佳伟创、嘉芯半导体、中电科、科睿设备有限公司、中科院沈阳科学仪器、合肥科晶材料、晶盛机电、中微公司、盛美上海、拓荆科技。该领域设备国产化率还处于较低水平，约为15%-20%，其中在先进制程领域，国产化率仅为10%左右，主要依赖进口。

半导体CMP设备领域，我国在成熟制程国产化率约15%-25%，主要应用于功率半导体、MEMS传感器等领域；而在先进制程上国产化率不足10%，高端市场由应用材料、荏原制作所等垄断。我国在该领域上的代表企业主要有盛美上海、华海清科、中国电科、鼎龙控股、烁科精微等。

涂胶显影设备是光刻工艺的核心设备之一，主要用于晶圆的光刻胶涂覆、显影等步骤。在该领域，我国国产化率约为10%-15%（主要集中在封装和成熟制程），前道设备国产化率不足10%。行业消息显示，涂胶显影设备的主要挑战在于设备稳定性、工艺精度（如均匀性控制）、与光刻机的协同适配方面。我国涂胶显影设备主要代表企业则是盛美上海、芯源微、北方华创、中微公司、华峰测控等。

在离子注入设备领域，我国在成熟制程上的国产化率约10%-20%，主要应用于功率半导体、MEMS传感器等非先进逻辑芯片领域；而在先进制程国产化率不足5%，市场由应用材料、Axcelis、日立国际电气主导。目前，国产设备在中高能量（>200keV）和超低能量（<1keV）离子注入领域仍落后，束流均匀性（±3%vs国际±1%）和稳定性待提升。而在晶圆尺寸适配上，12英寸设备成熟度低，8英寸设备逐步替代进口。此外在相关重要配件上如离子源、质量分析器等长期依赖进口。该领域我国主要代表企业为凯世通、中国电科、烁科中信科、北方华创、中微公司等。

半导体量测设备包括晶圆缺陷检测、关键尺寸测量（CD-SEM）、膜厚测量（椭偏仪）、套刻精度测量等，技术门槛极高。该领域整体国产化率约为10%-15%，我国主要在中低端设备和部分细分领域取得突破，其中前道高端设备（如EUV相关检测）国产化率不足5%。目前该领域的主要发展瓶颈在于核心光学部件（如高精度激光器）、算法软件（缺陷分类与数据分析）依赖进口，设备稳定性与海外巨头存在差距。在量测领域我国主要代表企业为上海微电子、中科飞测、精测电子、华海清科、北方华创等。

在半导体光刻设备前道制造（EUV/ArF浸没式）领域，国产化率约为0%-1％。而在成熟制程光刻机（KrF/i-line，90nm及以上），国产化率约10%-15%，主要用于功率半导体、MEMS、分立器件等领域。而在封装光刻机（后道先进封装），在上海微电子主导下，国产化率不断提升。在该领域我国的主要代表企业有上海微电子、中国电科、北方华创等。据悉，上海微电子计划推出支持55nm制程的KrF光刻机，并推进28nm光刻机量产验证。